คำอธิบายโดยละเอียดของกระบวนการชุบด้วยไฟฟ้า PCB!

PCB เป็นส่วนประกอบที่ขาดไม่ได้ของผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์สมัยใหม่ โดยเป็นแพลตฟอร์มสำหรับติดตั้งสำหรับส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ และช่วยให้สามารถเชื่อมต่อทางไฟฟ้าระหว่างวงจรได้ เพื่อให้มั่นใจถึงการนำไฟฟ้าและความต้านทานการกัดกร่อนที่ดีเยี่ยม การชุบด้วยไฟฟ้าถือเป็นขั้นตอนสำคัญในกระบวนการผลิต PCB การชุบด้วยไฟฟ้าไม่เพียงแต่ช่วยเพิ่มการนำไฟฟ้าของพื้นผิว PCB และเพิ่มความสามารถในการบัดกรีเท่านั้น แต่ยังช่วยปกป้อง PCB จากอิทธิพลของสิ่งแวดล้อมได้อย่างมีประสิทธิภาพอีกด้วย

การจุ่มกรด → การชุบทองแดงเต็มบอร์ด - → การถ่ายโอนรูปแบบ → การล้างไขมันด้วยกรด → การล้างด้วยกระแสทวนซ้ำทุติยภูมิ → การกัดด้วยกรดทุติยภูมิ → การชุบดีบุก → การชะล้างด้วยกระแสทวนซ้ำทุติยภูมิ → การจุ่มกรด → การชุบทองแดงตามรูปแบบ → การชะล้างทวนกระแสที่สอง → การชุบนิกเกิล → การชะล้างด้วยน้ำรอง → การจุ่มกรดซิตริก → การชุบทอง → การรีไซเคิล → การล้างด้วยน้ำบริสุทธิ์ 2-3 ขั้นตอน → การอบแห้ง

การไหลของกระบวนการชุบด้วยไฟฟ้า PCB

I. การจุ่มกรด

1. หน้าที่และวัตถุประสงค์

ขจัดออกไซด์ของพื้นผิวและเปิดใช้งานพื้นผิวบอร์ด โดยทั่วไปความเข้มข้นจะอยู่ที่ 5% บางครั้งคงไว้ที่ประมาณ 10% สิ่งสำคัญคือต้องป้องกันไม่ให้ความชื้นเข้าไปในอ่างอาบน้ำ ซึ่งอาจทำให้ระดับกรดซัลฟิวริกไม่เสถียร

เวลาในการจุ่มกรดไม่ควรนานเกินไปเพื่อป้องกันการเกิดออกซิเดชันที่พื้นผิว

หลังจากใช้งานไประยะหนึ่ง หากสารละลายกรดขุ่นหรือมีปริมาณทองแดงสูงเกินไป ควรเปลี่ยนทันทีเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนของถังชุบทองแดงและพื้นผิวกระดาน

ใช้กรดซัลฟิวริกเกรด CP

ครั้งที่สอง การชุบทองแดงทั้งแผ่น-

1. หน้าที่และวัตถุประสงค์:

ปกป้องชั้นบางๆ ของทองแดงที่ไม่ใช้ไฟฟ้าที่เพิ่งสะสมใหม่จากปฏิกิริยาออกซิเดชันและกรด และลดความเข้มข้นลงสู่ระดับหนึ่งผ่านการชุบด้วยไฟฟ้า

พารามิเตอร์กระบวนการสำหรับการชุบทองแดงทั้งแผ่น-: อ่างประกอบด้วยคอปเปอร์ซัลเฟตและกรดซัลฟิวริกเป็นส่วนประกอบหลัก สูตรทองแดง-ความเป็นกรดต่ำ-ถูกนำมาใช้เพื่อให้แน่ใจว่ามีการกระจายความหนาสม่ำเสมอทั่วทั้งแผ่นและความลึกของการชุบลึกในรูลึกและเล็ก

โดยทั่วไปปริมาณกรดซัลฟิวริกจะอยู่ที่ 180 กรัม/ลิตร โดยบางส่วนอาจมีถึง 240 กรัม/ลิตร

โดยทั่วไปปริมาณคอปเปอร์ซัลเฟตจะอยู่ที่ประมาณ 75 กรัม/ลิตร จะมีการเติมคลอไรด์ไอออนในปริมาณเล็กน้อยลงในอ่างเพื่อเป็นบัฟเฟอร์ สารเพิ่มความมันเงาและสารบรอนเซอร์ทำงานร่วมกันเพื่อสร้างเอฟเฟกต์ความมันเงา

ขนาดยาบรอนเซอร์หรือปริมาตรเริ่มต้นโดยทั่วไปคือ 3-5 มล./ลิตร โดยทั่วไปการเติมสารบรอนเซอร์จะขึ้นอยู่กับกิโลแอมแปร์-ชั่วโมงหรือผลการผลิตแผ่นกระดานจริง

2. กระแสไฟฟ้าสำหรับการชุบด้วยไฟฟ้าเต็มแผ่น-โดยทั่วไปจะคำนวณเป็น 2 A/sq เดซิเมตร คูณด้วยพื้นที่การชุบ สำหรับการชุบด้วยไฟฟ้าทั้งแผ่น- นี่คือความยาวของบอร์ด × ความกว้างของบอร์ด × 2 × 2 A/dm² อุณหภูมิอ่างทองแดงจะคงไว้ที่อุณหภูมิห้อง โดยทั่วไปไม่เกิน 32 องศา และโดยทั่วไปจะควบคุมที่ 22 องศา ดังนั้นในฤดูร้อนเนื่องจากอุณหภูมิสูงจึงแนะนำให้ติดตั้งระบบทำความเย็นบนอ่างทองแดง

3. การบำรุงรักษากระบวนการ

เติมน้ำยาขัดเงาทองแดงทุกวันโดยคิดเป็นกิโลแอมแปร์{0}}ชั่วโมง (kAH) ในอัตรา 100-150 มล./kAH

ตรวจสอบปั๊มกรองการทำงานที่เหมาะสมและการรั่วซึม

ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแคโทดด้วยผ้าสะอาดชุบน้ำหมาดทุกๆ 2-3 ชั่วโมง

วิเคราะห์ปริมาณคอปเปอร์ซัลเฟต (สัปดาห์ละครั้ง) กรดซัลฟิวริก (สัปดาห์ละครั้ง) และคลอไรด์ไอออน (สัปดาห์ละสองครั้ง) ในถังทองแดงเป็นประจำ ปรับปริมาณการขัดเงาโดยใช้การทดสอบเซลล์เอฟเฟกต์ Hall และเติมวัตถุดิบที่เกี่ยวข้องทันที

ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแอโนดทุกสัปดาห์ เชื่อมต่อการเชื่อมต่อไฟฟ้าที่ปลายทั้งสองของถัง เติมลูกบอลทองแดงแอโนดในตะกร้าไทเทเนียมทันที และดำเนินการอิเล็กโทรลิซิสที่กระแสต่ำ 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง

ตรวจสอบถุงตะกร้าไทเทเนียมแอโนดทุกเดือนเพื่อดูความเสียหาย และเปลี่ยนถุงที่ชำรุดทันที

ตรวจสอบด้านล่างของตะกร้าไทเทเนียมแอโนดเพื่อดูการสะสมเมือกแอโนด ถ้ามีให้ทำความสะอาดทันที

กรองอย่างต่อเนื่องด้วยแกนคาร์บอนเป็นเวลา 6-8 ชั่วโมงในขณะเดียวกันก็ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำไปพร้อมๆ กันเพื่อขจัดสิ่งสกปรก

ทุกๆ หกเดือนโดยประมาณ ให้พิจารณาว่าจำเป็นต้องมีการบำบัดหลัก (ผงถ่านกัมมันต์) หรือไม่ ทั้งนี้ขึ้นอยู่กับระดับของการปนเปื้อนของของเหลวในถัง

เปลี่ยนไส้กรองในปั๊มกรองทุกสองสัปดาห์

4. ขั้นตอนการแก้ปัญหาเฉพาะ

ถอดขั้วบวกออก ล้างมันออก และทำความสะอาดฟิล์มขั้วบวกบนพื้นผิวขั้วบวก วางไว้ในถังที่มีขั้วบวกทองแดง ล้างด้วยน้ำแล้วเช็ดให้แห้ง จากนั้นใส่ลงในตะกร้าไทเทเนียมและใส่ในถังกรดเพื่อใช้ในภายหลัง

แช่ตะกร้าไทเทเนียมแอโนดและถุงแอโนดในสารละลายอัลคาไลน์ 10% เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง ล้างและทำให้แห้ง จากนั้นแช่ในกรดซัลฟิวริกเจือจาง 5% ล้างและทำให้แห้ง จากนั้นพักไว้

ย้ายสารละลายสำหรับอาบน้ำไปไว้ในถังสำรอง เติมไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 30% 1-3 มล./ลิตร แล้วเริ่มทำความร้อน เมื่ออุณหภูมิถึงประมาณ 65 องศา ให้คนด้วยอากาศ รักษาอุณหภูมิไว้ได้ 2-4 ชั่วโมง

ปิดการคนด้วยอากาศแล้วค่อยๆ ละลายผงถ่านกัมมันต์ในสารละลายสำหรับอาบน้ำในอัตรา 3-5 กรัม/ลิตร เมื่อละลายแล้วให้คนด้วยอากาศ ให้ความร้อนต่อไป . 2-4 ชั่วโมง;

ปิดการกวนอากาศ เพิ่มอุณหภูมิ และปล่อยให้ผงถ่านกัมมันต์ค่อยๆ ตกลงไปที่ด้านล่างของถัง

เมื่ออุณหภูมิลดลงถึงประมาณ 40 องศา ให้กรองของเหลวในอ่างผ่านตัวกรอง PP ขนาด 10µm พร้อมผงกรองลงในถังทำงานที่สะอาด เปิดการกวนอากาศ เพิ่มขั้วบวก และแขวนแผ่นอิเล็กโทรไลต์ ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำ-ที่ความหนาแน่นกระแส 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง

หลังจากการวิเคราะห์ในห้องปฏิบัติการ ให้ปรับระดับกรดซัลฟิวริก คอปเปอร์ซัลเฟต และคลอไรด์ไอออนในถังให้อยู่ในช่วงการทำงานปกติ เติมสารเพิ่มความสดใสตามผลการทดสอบเซลล์ฮอลล์

เมื่อพื้นผิวแผ่นอิเล็กโทรไลต์มีสีสม่ำเสมอ ให้หยุดอิเล็กโทรไลซิสและทำการบำบัดฟิล์มด้วยไฟฟ้าต่อไปที่ความหนาแน่นกระแส 1-1.5 ASD เป็นเวลา 1-2 ชั่วโมงจนกระทั่งฟิล์มฟอสฟอรัสสีดำที่สม่ำเสมอ หนาแน่น และยึดเกาะได้ดีก่อตัวบนขั้วบวก

ทดสอบการชุบ

5. ลูกทองแดงแอโนดมีฟอสฟอรัส 0.3-0.6% วัตถุประสงค์หลักคือเพื่อลดประสิทธิภาพการละลายของขั้วบวกและลดการสร้างผงทองแดง

6. เมื่อเติมสารเสริม เช่น คอปเปอร์ซัลเฟตหรือกรดซัลฟิวริก ให้ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำ-หลังจากการเติม ใช้ความระมัดระวังเมื่อเติมกรดซัลฟิวริก ควรเติมปริมาณมาก (มากกว่า 10 ลิตร) อย่างช้าๆ และหลายๆ ส่วน มิฉะนั้น อุณหภูมิอ่างจะร้อนเกินไป เร่งการสลายตัวของตัวเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงและปนเปื้อนในอ่าง

7. ควรระมัดระวังเป็นพิเศษเมื่อเติมคลอไรด์ไอออน เนื่องจากมีปริมาณคลอไรด์ต่ำมาก (30-90 ppm) การวัดที่แม่นยำโดยใช้กระบอกตวงหรือถ้วยตวงจึงจำเป็นอย่างยิ่ง. 1 มิลลิลิตรของกรดไฮโดรคลอริกที่มีคลอไรด์ไอออนประมาณ 385 ppm

8. สูตรคำนวณการเติมสารเคมี:

คอปเปอร์ซัลเฟต (กก.)=(75 - X) × ปริมาตรถัง (L) / 1,000

กรดซัลฟิวริก (ลิตร)=(10% - X) กรัม/ลิตร × ปริมาตรถัง (ลิตร)

หรือ (L)=(180 - X) กรัม/ลิตร × ปริมาตรถัง (L) / 1840

กรดไฮโดรคลอริก (มล.)=(60 - X) ppm × ปริมาตรถัง (ลิตร) / 385

III. การล้างไขมันด้วยกรด

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: ขจัดออกไซด์และฟิล์มหมึกที่ตกค้างและกาวออกจากพื้นผิวทองแดงของวงจร เพื่อให้มั่นใจว่ามีการยึดเกาะระหว่างทองแดงปฐมภูมิกับทองแดงหรือนิกเกิลที่มีลวดลาย

2. อย่าลืมใช้น้ำยาขจัดคราบที่เป็นกรดที่นี่ เนื่องจากหมึกลวดลายไม่ทนทานต่อด่าง- และจะทำให้วงจรที่มีลวดลายเสียหาย จึงควรใช้เฉพาะน้ำยาขจัดคราบที่เป็นกรดก่อนการชุบด้วยไฟฟ้าตามรูปแบบ

3. ในระหว่างการผลิต จำเป็นต้องควบคุมความเข้มข้นของน้ำยาขจัดคราบและเวลาในการรักษาเท่านั้น ความเข้มข้นของน้ำยาล้างไขมันควรอยู่ที่ประมาณ 10% และเวลาในการรักษาควรอยู่ภายใน 6 นาที ระยะเวลาการรักษานานขึ้นจะไม่เกิดผลเสียใดๆ ควรใช้และเปลี่ยนน้ำยาสำหรับอาบน้ำในอัตรา 15 ตร.ม./ลิตร ของสารละลายสำหรับใช้งาน โดยเติม 0.5-0.8 ลิตรต่อสารละลาย 100 ตร.ม.

IV. การกัดแบบไมโคร

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: ทำความสะอาดและทำให้พื้นผิวทองแดงของวงจรหยาบขึ้น เพื่อให้มั่นใจว่ามีการยึดเกาะระหว่างรูปแบบทองแดงที่ชุบด้วยไฟฟ้าและทองแดงปฐมภูมิ

2. โซเดียมเปอร์ซัลเฟตมักถูกใช้เป็นสารกัดกร่อนขนาดเล็ก ซึ่งมีอัตราการหยาบที่สม่ำเสมอและสม่ำเสมอ รวมถึงสามารถล้างน้ำได้ดี โดยทั่วไปความเข้มข้นของโซเดียมเพอร์ซัลเฟตจะถูกควบคุมที่ประมาณ 60 กรัม/ลิตร ระยะเวลาในการรักษาประมาณ 20 วินาที และปริมาณสารเคมีที่เติมคือ 3-4 กิโลกรัมต่อ 100 ตร.ม. ควรควบคุมปริมาณทองแดงที่ 20 กรัม/ลิตร การบำรุงรักษาและการเปลี่ยนแปลงถังอื่นๆ จะเหมือนกับการกัดทองแดงด้วยทองแดง

5. การจุ่มกรด

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: ขจัดออกไซด์ออกจากพื้นผิวบอร์ดและเปิดใช้งานพื้นผิวบอร์ด โดยทั่วไปความเข้มข้นจะอยู่ที่ 5% บางครั้งคงไว้ที่ประมาณ 10% สิ่งสำคัญคือต้องป้องกันไม่ให้ความชื้นเข้าไปในอ่างซึ่งอาจนำไปสู่ปริมาณกรดซัลฟิวริกที่ไม่เสถียร

2. หลีกเลี่ยงการจุ่มกรดเป็นเวลานานเพื่อป้องกันการเกิดออกซิเดชันที่พื้นผิวบอร์ด หากสารละลายกรดขุ่นหรือมีปริมาณทองแดงสูงเกินไปหลังจากใช้งานไประยะหนึ่ง ควรเปลี่ยนทันทีเพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนของถังชุบทองแดงและพื้นผิวกระดาน

3. ควรใช้กรดซัลฟิวริกเกรด CP

6. ลายทองแดงชุบ

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: เพื่อให้เป็นไปตามพิกัดกระแสโหลดของแต่ละวงจร แต่ละชั้นการชุบทองแดงของวงจรและรูจะต้องมีความหนาที่แน่นอนหลังจากการชุบ วัตถุประสงค์ของการชุบทองแดงวงจรคือการทำให้ทองแดงรูและทองแดงวงจรหนาขึ้นทันทีให้มีความหนาที่แน่นอน

2. ขั้นตอนอื่นๆ ทั้งหมดจะเหมือนกับการชุบด้วยไฟฟ้าทั้งแผ่น-

ปกเกล้าเจ้าอยู่หัว ดีบุกชุบไฟฟ้า

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: จุดประสงค์ของการชุบดีบุกบริสุทธิ์ด้วยไฟฟ้าคือการใช้ดีบุกบริสุทธิ์เหมือนกับโลหะต้านทานเพื่อป้องกันวงจรจากการกัด

2. การอาบน้ำประกอบด้วยสแตนนัสซัลเฟต กรดซัลฟิวริก และสารเติมแต่งเป็นหลัก ปริมาณสแตนนัสซัลเฟตถูกควบคุมที่ประมาณ 35 กรัม/ลิตร และปริมาณกรดซัลฟิวริกถูกควบคุมที่ประมาณ 10% โดยทั่วไปสารเติมแต่งในการชุบดีบุกจะถูกเติมตามกิโลแอมแปร์-ชั่วโมงหรือผลการผลิตแผ่นกระดานจริง กระแสไฟฟ้าในการชุบโดยทั่วไปจะคำนวณเป็น 1.5 แอมป์/ตารางเดซิเมตร คูณด้วยพื้นที่การชุบของกระดาน อุณหภูมิอ่างดีบุกจะคงอยู่ที่อุณหภูมิห้อง โดยทั่วไปไม่เกิน 30 องศาเซลเซียส และโดยทั่วไปจะควบคุมที่ 22 องศาเซลเซียส ดังนั้นในฤดูร้อน เนื่องจากอุณหภูมิสูง ขอแนะนำให้ติดตั้งอ่างดีบุกพร้อมระบบทำความเย็นและควบคุมอุณหภูมิ

3. การบำรุงรักษากระบวนการ

เติมสารเติมแต่งในการชุบดีบุกทุกวันโดยพิจารณาจากกิโลแอมแปร์-ชั่วโมง (kAH) ตรวจสอบปั๊มกรองการทำงานที่เหมาะสมและการรั่วซึม ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแคโทดด้วยผ้าสะอาดชุบน้ำหมาดทุกๆ 2-3 ชั่วโมง

วิเคราะห์ถังดีบุกเพื่อหาสแตนนัสซัลเฟต (สัปดาห์ละครั้ง) และกรดซัลฟิวริก (สัปดาห์ละครั้ง) ปรับปริมาณสารเติมแต่งในการชุบดีบุกผ่านการทดสอบเซลล์ฮอลล์และเติมวัตถุดิบที่เกี่ยวข้องทันที

ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแอโนดและขั้วต่อไฟฟ้าที่ปลายทั้งสองข้างของถังทุกสัปดาห์

ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสที่กระแสต่ำ 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมงต่อสัปดาห์

ตรวจสอบถุงขั้วบวกเพื่อดูความเสียหายทุกเดือน และเปลี่ยนรายการที่เสียหายทันที ตรวจสอบด้านล่างของถุงเพื่อหาเมือกแอโนดแล้วทำความสะอาดทันที

ใช้แกนคาร์บอนเพื่อการกรองอย่างต่อเนื่องเป็นเวลา 6-8 ชั่วโมงต่อเดือน โดยดำเนินการอิเล็กโทรลิซิสกระแสต่ำพร้อมกันเพื่อขจัดสิ่งสกปรก

ทุกๆ หกเดือน ให้พิจารณาว่าจำเป็นต้องมีการบำบัดหลัก (ผงถ่านกัมมันต์) โดยพิจารณาจากการปนเปื้อนของสารละลายในถังหรือไม่

เปลี่ยนไส้กรองของปั๊มกรองทุกสองสัปดาห์

4. ขั้นตอนการแก้ปัญหาเฉพาะ

ถอดขั้วบวกและถุงขั้วบวกออก ทำความสะอาดพื้นผิวขั้วบวกด้วยแปรงทองแดง ล้างด้วยน้ำ และล้างออกให้แห้ง วางถุงขั้วบวกไว้ในถังกรดเพื่อใช้ในภายหลัง

แช่ถุงแอโนดในสารละลายอัลคาไล 10% เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง แล้วล้างออกด้วยน้ำ จากนั้นแช่ในกรดซัลฟิวริกเจือจาง 5% ล้างน้ำ เช็ดให้แห้ง แล้วพักไว้

ย้ายสารละลายสำหรับอาบน้ำไปยังถังสำรอง และค่อยๆ ละลายผงถ่านกัมมันต์ในอัตรา 3-5 กรัม/ลิตร เมื่อละลายหมดแล้ว ปล่อยให้ดูดซับประมาณ 4-6 ชั่วโมง กรองสารละลายสำหรับอาบน้ำโดยใช้ไส้กรอง PP ขนาด 10µm พร้อมผงช่วยกรองลงในถังทำงานที่สะอาด วางขั้วบวกไว้ในถังทำงานแล้วติดแผ่นอิเล็กโทรไลต์ ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำที่ความหนาแน่นกระแส 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง

หลังการวิเคราะห์ ให้ปรับระดับกรดซัลฟิวริกและสแตนนัสซัลเฟตในถังให้อยู่ในช่วงการทำงานปกติ เพิ่มสารเติมแต่งที่ทำให้แน่นตามผลการทดสอบเซลล์ฮอลล์

เมื่อพื้นผิวแผ่นอิเล็กโทรไลต์มีสีสม่ำเสมอ ให้หยุดอิเล็กโทรไลซิส

ทดสอบการชุบ

5. เมื่อเติมยาเพิ่มเติม เช่น สแตนนัสซัลเฟตหรือกรดซัลฟิวริก ควรทำอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำ-หลังจากการเติม ควรใช้ข้อควรระวังเพื่อความปลอดภัยเมื่อเติมกรดซัลฟิวริก ควรเติมปริมาณมาก (มากกว่า 10 ลิตร) อย่างช้าๆ และในหลายส่วน มิฉะนั้น อุณหภูมิของอ่างจะร้อนเกินไป จะเกิดปฏิกิริยาออกซิเดชันของซัลเฟตซัลเฟต และความชราของอ่างก็จะเร่งเร็วขึ้น

6. สูตรคำนวณการเติมยา:

สแตนนัสซัลเฟต (กก.)=(40 - X) × ปริมาตรอ่าง (ลิตร) / 1,000

กรดซัลฟิวริก (ลิตร)=(10% - X) กรัม/ลิตร × ปริมาตรอ่าง (ลิตร)

หรือ (ลิตร)=(180 - X) กรัม/ลิตร × ปริมาตรอ่าง (ลิตร) / 1840

8. ชุบทองด้วยไฟฟ้า

การชุบทองด้วยไฟฟ้าแบ่งออกเป็นกระบวนการทองแข็ง (โลหะผสมทอง) และทองน้ำ (ทองบริสุทธิ์) องค์ประกอบของอ่างทองแข็งและการชุบทองอ่อนโดยพื้นฐานแล้วจะเหมือนกัน ยกเว้นอ่างทองแข็งที่มีธาตุเล็กน้อย เช่น นิกเกิล โคบอลต์ หรือเหล็ก

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: ทองคำในฐานะโลหะมีค่า มีความสามารถในการบัดกรีได้ดีเยี่ยม ต้านทานการเกิดออกซิเดชัน ต้านทานการกัดกร่อน ต้านทานการสัมผัสต่ำ และต้านทานการสึกหรอของโลหะผสมได้ดีเยี่ยม

2. ปัจจุบันวิธีการหลักในการชุบทองบนแผงวงจรคืออ่างทองกรดซิตริก ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายเนื่องจากบำรุงรักษาง่ายและใช้งานง่าย

3. ควรควบคุมปริมาณทองคำในน้ำประมาณ 1 กรัม/ลิตร ค่า pH ประมาณ 4.5 อุณหภูมิที่ 35 องศา ความถ่วงจำเพาะประมาณ 14 องศา B และความหนาแน่นกระแสประมาณ 1 ASD

4. สารเติมแต่งที่สำคัญ ได้แก่ เกลือที่เป็นกรดและด่างสำหรับการปรับ pH เกลือที่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้าสำหรับการปรับความถ่วงจำเพาะ สารเติมแต่งสำหรับการชุบทอง และเกลือทองคำ

5. เพื่อปกป้องอ่างทองคำ ควรเติมอ่างกรดซิตริกก่อนอาบน้ำ เพื่อลดการปนเปื้อนอย่างมีประสิทธิภาพและรักษาความเสถียร

6. หลังจากการชุบด้วยไฟฟ้า ควรล้างแผ่นทองด้วยน้ำบริสุทธิ์เพื่อเป็นการล้างน้ำรีไซเคิล นอกจากนี้ยังสามารถใช้เพื่อเติมระดับการระเหยของอ่างทองได้อีกด้วย หลังจากการล้างน้ำแบบรีไซเคิล ควรทำการล้างน้ำบริสุทธิ์แบบทวนกระแสสำรอง ทันทีหลังจากล้าง ควรวางแผ่นทองคำในสารละลายอัลคาไล 10 กรัม/ลิตร เพื่อป้องกันการเกิดออกซิเดชัน

7. อ่างทองควรใช้ตาข่ายไทเทเนียมเคลือบแพลทินัม-เป็นขั้วบวก สแตนเลส 316 ทั่วไปละลายได้ง่าย ทำให้เกิดการปนเปื้อนของโลหะจากนิกเกิล เหล็ก และโครเมียม ทำให้เกิดข้อบกพร่อง เช่น การฟอกสีฟัน การหลุดล่อนของการชุบ และการทำให้ทองที่ชุบดำคล้ำ

8. การปนเปื้อนสารอินทรีย์ในอ่างทองควรกรองอย่างต่อเนื่องด้วยแกนคาร์บอน และควรเติมสารเติมแต่งชุบทองในปริมาณที่เหมาะสม

ทรงเครื่อง ชุบนิกเกิล

1. วัตถุประสงค์และฟังก์ชัน: ชั้นนิกเกิลทำหน้าที่เป็นตัวกั้นระหว่างชั้นทองแดงและทอง ป้องกันการแพร่กระจาย-ข้ามระหว่างชั้นทองและทองแดง ซึ่งอาจส่งผลต่อความสามารถในการบัดกรีและอายุการใช้งานของบอร์ด นอกจากนี้ ชั้นนิกเกิลยังเพิ่มความแข็งแรงเชิงกลของชั้นทองเป็นไพรเมอร์อย่างมีนัยสำคัญอีกด้วย

2. พารามิเตอร์กระบวนการสำหรับการชุบด้วยไฟฟ้าทองแดงแบบเต็ม-แผง

โดยทั่วไปสารเติมแต่งสำหรับการชุบนิกเกิลจะถูกเติมตามกิโลแอมแปร์-ชั่วโมง (kAH) หรือขึ้นอยู่กับผลการผลิตจริง อัตราการเติมจะอยู่ที่ประมาณ 200 มล./kAH

กระแสไฟฟ้าสำหรับการชุบนิเกิลแบบลวดลาย โดยทั่วไปจะคำนวณโดยการคูณ 2 A/dm² ด้วยพื้นที่การชุบของแผ่นกระดาน

อุณหภูมิอ่างนิกเกิลจะอยู่ระหว่าง 40 ถึง 55 องศา โดยทั่วไปจะอยู่ที่ประมาณ 50 องศา ดังนั้นควรติดตั้งระบบควบคุมอุณหภูมิและความร้อน

3. การบำรุงรักษากระบวนการ

ควรเติมสารเติมแต่งสำหรับชุบนิกเกิลทุกวันโดยพิจารณาจาก kAH

ตรวจสอบปั๊มกรองการทำงานที่เหมาะสมและการรั่วซึม

ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแคโทดด้วยผ้าสะอาดชุบน้ำหมาดทุกๆ 2-3 ชั่วโมง

วิเคราะห์ปริมาณนิกเกิลซัลเฟต (นิกเกิลซัลเฟต) (สัปดาห์ละครั้ง) นิกเกิลคลอไรด์ (สัปดาห์ละครั้ง) และกรดบอริก (สัปดาห์ละครั้ง) ในอ่างทองแดงเป็นประจำ ปรับปริมาณสารเติมแต่งในการชุบนิกเกิลผ่านการทดสอบเซลล์เอฟเฟกต์ฮอลล์ และเติมวัตถุดิบที่เกี่ยวข้อง

ทำความสะอาดแท่งนำไฟฟ้าแอโนดและอ่างอาบน้ำทุกสัปดาห์ เชื่อมต่อขั้วต่อไฟฟ้าที่ปลายทั้งสองข้าง เติมนิกเกิลแอโนดในตะกร้าไทเทเนียมทันที และดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสที่กระแสต่ำ 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง

ตรวจสอบความเสียหายของถุงตะกร้าไทเทเนียมแอโนดทุกเดือน และเปลี่ยนทันที นอกจากนี้ ให้ตรวจสอบด้านล่างของตะกร้าไทเทเนียมแอโนดว่ามีการสะสมเมือกแอโนดหรือไม่ และทำความสะอาดทันที

กรองอย่างต่อเนื่องด้วยแกนคาร์บอนเป็นเวลา 6-8 ชั่วโมงในขณะที่ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำเพื่อขจัดสิ่งสกปรก

ทุกๆ หกเดือนหรือประมาณนั้น ให้พิจารณาว่าจำเป็นต้องมีการบำบัดหลัก (ผงถ่านกัมมันต์) โดยพิจารณาจากระดับการปนเปื้อนในสารละลายสำหรับอาบน้ำหรือไม่

เปลี่ยนไส้กรองในปั๊มกรองทุกสองสัปดาห์

4. ขั้นตอนการแก้ปัญหาเฉพาะ

ถอดขั้วบวกออก เทขั้วบวกออก ทำความสะอาด และวางลงในถังที่มีแตรนิกเกิล ล้างแตรนิกเกิลด้วยสารกัดขนาดเล็ก-เพื่อทำให้พื้นผิวหยาบจนเป็นสีชมพูเท่ากัน ล้างด้วยน้ำแล้วเช็ดให้แห้ง จากนั้นใส่ลงในตะกร้าไทเทเนียมและใส่ในถังกรดเพื่อใช้ในภายหลัง

แช่ตะกร้าไทเทเนียมแอโนดและถุงแอโนดในสารละลายอัลคาไลน์ 10% เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง ล้างด้วยน้ำแล้วล้างออกให้แห้ง จากนั้นแช่ในกรดซัลฟิวริกเจือจาง 5% แล้วล้างออกด้วยน้ำและเช็ดให้แห้ง กันไว้.

ย้ายสารละลายสำหรับอาบน้ำไปไว้ในถังสำรอง เติมไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์ 30% 1-3 มล./ลิตร แล้วเริ่มทำความร้อน เมื่ออุณหภูมิถึงประมาณ 65 องศา ให้เริ่มกวนด้วยอากาศ รักษาอุณหภูมิและกวนเป็นเวลา 2-4 ชั่วโมง

ปิดความปั่นป่วน คนและค่อยๆ ละลายผงถ่านกัมมันต์ลงในอ่างในอัตรา 3-5 กรัม/ลิตร เมื่อละลายหมดแล้ว ให้คนด้วยอากาศ และรักษาอุณหภูมิไว้ 2-4 ชั่วโมง

ปิดอากาศและคน จากนั้นตั้งอ่างให้ร้อนเพื่อให้ผงถ่านกัมมันต์ค่อยๆ ตกลงไปที่ด้านล่างของอ่าง

เมื่ออุณหภูมิลดลงถึงประมาณ 40 องศา ให้กรองของเหลวในอ่างผ่านตัวกรอง PP ขนาด 10µm พร้อมผงช่วยกรองลงในถังทำงานที่สะอาด คนด้วยอากาศ เติมขั้วบวก ติดแผ่นอิเล็กโทรไลต์ และดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำ-ที่ความหนาแน่นกระแส 0.2-0.5 ASD เป็นเวลา 6-8 ชั่วโมง

หลังการวิเคราะห์ ให้ปรับระดับนิกเกิลซัลเฟตหรือนิกเกิลซัลเฟต นิกเกิลคลอไรด์ และกรดบอริกในอ่างให้อยู่ในช่วงการทำงานปกติ

เพิ่มสารเติมแต่งในการชุบนิกเกิลตามผลการทดลองเซลล์ฮอลล์

เมื่อพื้นผิวแผ่นอิเล็กโทรไลต์มีสีสม่ำเสมอ ให้หยุดอิเล็กโทรไลซิสและทำอิเล็กโทรลิซิสต่อไปที่ความหนาแน่นกระแส 1-1.5 ASD เป็นเวลา 10-20 นาทีเพื่อเปิดใช้งานขั้วบวก

ทดสอบการชุบ

5. เมื่อเติมสารเติมแต่ง หากเติมในปริมาณมาก เช่น นิกเกิลซัลเฟต นิกเกิลซัลเฟต หรือนิกเกิลคลอไรด์ ให้ดำเนินการอิเล็กโทรไลซิสกระแสต่ำ-หลังจากการเติม เมื่อเติมกรดบอริก ให้ใส่ปริมาณที่เติมลงในถุงขั้วบวกที่สะอาดแล้วแขวนไว้ในถังนิกเกิล อย่าเพิ่มลงในถังโดยตรง

6. หลังจากชุบนิกเกิลแล้ว แนะนำให้เติมน้ำรีไซเคิลเพื่อล้าง เริ่มถังด้วยน้ำบริสุทธิ์เพื่อเติมระดับของเหลวในถังนิกเกิลที่ระเหยเนื่องจากความร้อน ปฏิบัติตามการล้างด้วยน้ำที่นำกลับมาใช้ใหม่ด้วยการล้างแบบทวนกระแสสำรอง

7. สูตรคำนวณการเติมยา

นิกเกิลซัลเฟต (กก.)=(280 - X) × ปริมาตรถัง (L) / 1,000

นิกเกิลคลอไรด์ (กก.)=(45 - X) × ปริมาตรถัง (L) / 1,000

กรดบอริก (กก.)=(45 - X) × ปริมาตรถัง (ลิตร) / 1,000